新年伊始，公司研发部再传捷报。

      经研发部同仁齐心协力共同攻关，成功研制出低折射率镀膜材料——JS04晶体膜料。该镀膜材料的折射率为1.47@500nm，采用电子枪蒸发，蒸镀温度为2000°C左右，透光范围300-7000nm，特别适合在塑料衬底上蒸镀。

      该产品的成功开发打破了国外公司长期的技术封锁，填补了国内空白。将为我国光学镀膜企业增强竞争力提供有力保障。